PVD物理氣相沉積采用低（dī）電壓大電流的電弧放（fàng）電技術，通過荷能（néng）粒（lì）子的轟擊，將其吸引並沉積到工件表麵形成（chéng）3~5um的超硬薄膜層。利用PVD法可在工件表（biǎo）麵沉積類金（jīn）剛石dlc、氮化鈦TiN、氮化鉻CrN、DLC、TiAIN等單層多層複合（hé）塗（tú）層。

離子束DLC:碳氫（qīng）氣體在離子源中被（bèi）離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的（de）電壓來（lái）控製。碳氫離子束被引（yǐn）到基片上，沉積速度與離子電流（liú）密度成正比。星弧（hú）塗層（céng）的離子束源采用（yòng）高電壓，因而離子能量更大（dà），使得（dé）薄膜與基片結合力很好;離子（zǐ）電流更大，使得DLC 膜的沉積速度更快。

DLC膜層是一種（zhǒng）由碳元素構成（chéng）的類似鑽石的碳薄膜，具有優異的硬度（dù）、耐磨性和（hé）化學穩定性。在（zài）許多（duō）領域中，DLC膜層被廣泛應用於（yú）減摩（mó）、潤滑、防腐蝕等方麵。然而，熱膨脹是 DLC膜層應用過（guò）程中需（xū）要考慮的一個重要因素。

由（yóu）於（yú）DLC膜層中含有較高（gāo）比例的碳元素，其熱膨脹係數通常較低。這是因為碳元（yuán）素的原子半徑較小，原子間的結合力較強（qiáng），使得DLC層在溫（wēn）度變化下的膨（péng）脹程度較小（xiǎo）。此外，DLC膜層中還可能摻雜（zá）其他（tā）元素，如（rú）氫、氮、矽等，這些元素的加入會對膨脹（zhàng）係數（shù）產生一定的影響。

DLC膜層參數

1.硬度（dù）極高(超過Hv2000-Hv4500):代表耐性極（jí）好;

2.摩擦係數低（dī）(DLC=0.04):改善拉伸五金衝壓、成型的潤滑問（wèn）題;

3.耐高溫(最高達到350℃):不容易氧化，改善幹切削和壓鑄成型問題;化（huà）學屏障/導（dǎo）熱率低:可有效防止因高溫導致硬質合金刀具的鑽元素流失:改善壓鑄出現的熱龜裂（liè）問題;

4.厚度可（kě）控（kòng）製在1-5微米以內:塗（tú）層後（hòu）不影響產品的最終尺寸