類金剛石膜是以石墨或碳氫化合物等為原料，在低溫低壓下（xià）人工合成的一種含有（yǒu）SP3和SP2鍵（jiàn）的非晶碳（tàn）膜。由於（yú）其具有一係列與金剛石相接近的優良性能和結構特征，國（guó）內外科技工作者（zhě）對DLC膜的製備（bèi）工藝、結構形態、物理測定、應用開拓和（hé）專業化生產（chǎn）等方麵進行了（le）廣泛的研究,采（cǎi）用陽極型氣體離子源結合非平衡磁控濺射複合技術的方法，製備Cr過（guò）渡（dù）層（céng）的DLC/wcc薄膜，並對（duì）其膜（mó）層性能、界麵、結構及成分分布等進行了分析，以期為製備（bèi）優質的DLC膜積累有用的特性數（shù）據。

       采用陽極層流型矩形氣體離子源，並結合非平衡（héng）磁控濺射進行摻鎢類金剛石（shí）薄膜沉積。主要沉積DLC薄膜（mó）:當在磁控靶前麵時（shí），主要沉積wcc薄膜（mó），最（zuì）終實現DLC/WCC多（duō）層（céng）膜的製備。

       DLC/wcc薄膜(約2200nm)。膜（mó）層總厚度約2.7um;顯微（wēi）硬度HV0.025,15為3550，明顯高於摻鈦（tài）類金剛石膜的硬度(HV0.025,15為2577);摩擦因數為0.139(與鋼對磨)。

        所沉積的膜層與較軟的Ti6AI4V基體結合良好，劃痕邊緣沒有明顯（xiǎn）的崩膜，到（dào）52N後才露出基體（tǐ），也就是膜基結合力達到（dào）了52N，達到工業應用離子鍍TiN薄膜（mó）的膜/基（jī）結合水平。

1、膜層厚度2.7μm，硬度為3550HV，與鋼對磨時摩擦因數為0.139，在Ti6AI4V鈦合金上膜（mó）/基結合力達（dá）52N。

2、WCC/DLC多層膜（mó），調製周期為4nm。

3、DLC/wcc薄膜仍呈現出類金剛石膜的主要特征